液晶、半導体、プリント基板業界における現像液、剥離液、洗浄液の濃度管理が可能です。 化学業界における酸、アルカリ溶液、パルプ製造工程の黒液の濃度管理等多数実績有り。 標準外カーブプログラムによる検量線の入力も可能です。

エレクトロニクス産業における超純水管理、医薬品工業における常水、精製水、滅菌精製水、注射用水管理に多数実績有り。 30年以上に及ぶ国内の納入実績により、高機能、高品質を実証しております。

広いレンジのPH、温度、多種のケミカル液測定、スクラバー、廃水処理、漂白装置、金属エッチングその他多くの用途に適しています。 特に高温度下においては、従来製品の２倍の寿命を維持しています。

塩素、オゾン、フッ素イオン等、様々な水質の測定が可能です。アメリカ、ヨーロッパを中心に世界中で使用され、上下水道、水処理プラント、研究所等で活躍しています。

沈殿槽、濃縮槽の汚泥をモニタリングします。

沈殿物を非接触で計測します。したがって不透明な処理水の界面及びタンク内の界面計測に最適です。

また同様の原理を用いて、逆洗フィルターの洗浄工程のモニターにも活用できます。

この場合はセンサーに濁度センサーが付与され、濁度と洗浄層厚さから、逆洗時間を最適化できます。

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超純水中の微小なパーティクルを40nmから測定する液中パーティクルカウンターです。測定方法は光散乱式方式を採用しており、最新技術であるナノビジョンテクノロジーを使用している為、従来の商品より、高感度です。電子産業分野中心に業界標準器として全世界で多数の実績があります。